化学镀镍层对直接生长碳纳米管薄膜强流脉冲发射稳定性的影响

编号：NMJS02876

篇名：化学镀镍层对直接生长碳纳米管薄膜强流脉冲发射稳定性的影响

作者：曾凡光； 李昕； 刘卫华； 乔淑珍； 麻华丽； 张锐； 夏连胜； 谌怡； 刘星光； 张篁；

关键词：碳纳米管； 镍膜； 强流脉冲发射； 提高稳定性； 归一化电流；

机构： 郑州航空工业管理学院数理系； 西安交通大学电子与信息工程学院； 中国工程物理研究院流体物理研究所；

摘要： 采用酞菁铁高温热解方法分别在镀镍和不镀镍硅基底上生长了碳纳米管(carbon nanotube,CNT)薄膜.镍镀层采用化学镀方法制备.为了研究有镍层和无镍层CNT(Si-CNT和Ni-CNT)薄膜阴极的强流脉冲发射稳定性,在相同的主Marx电压下采用二极结构对2种阴极进行重复发射实验.当峰值脉冲电压在1.62～1.66MV(对应场强为11.57～11.85V/μm)时,Si-CNT和Ni-CNT阴极首次发射的电流峰值分别为109.4和180.5A.通过比较2种阴极的归一化电流,可明显发现2种阴极发射稳定性的差异.Si-CNT和Ni-CNT的峰值发射电流由100%衰减到50%所经历的发射次数分别约为3和11次.