化学镀铜Si基底上碳纳米管薄膜强流脉冲发射稳定性研究

编号：NMJS03773

篇名：化学镀铜Si基底上碳纳米管薄膜强流脉冲发射稳定性研究

作者：麻华丽； 张新月； 曾凡光； 王淦平； 向飞

关键词：连续强流脉冲发射； 碳纳米管； 化学镀铜； 稳定性

机构： 郑州航空工业管理学院数理系； 中国工程物理研究院应用电子学研究所高功率微波技术重点实验室

摘要： 为了研究碳纳米管薄膜在强流连续多脉冲下的发射特性,采用酞菁铁高温热解方法在化学镀铜硅基底上生长了碳纳米管薄膜(Si/Cu-CNTs),作为强流脉冲发射阵列。在20GW脉冲功率源系统中采用二极结构对Si/Cu-CNTs薄膜进行连续多脉冲高电流发射测试,结果表明:连续多脉冲情况下,峰值电场达到29.1V/μm,发射电流密度为0.892kA/cm2时,Si/Cu-CNTs薄膜仍具有良好的发射可重复性,连续发射的每个电流波形基本一致,发射稳定性好。